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      產(chǎn)品詳情
      • 產(chǎn)品名稱:真空管測試儀生產(chǎn)

      • 產(chǎn)品型號:
      • 產(chǎn)品廠商:上海徐吉
      • 產(chǎn)品價格:0
      • 折扣價格:0
      • 產(chǎn)品文檔:
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      簡單介紹:
      真空管測試儀生產(chǎn)。真空滅弧室作為真空斷路器的核心部件,真空壓強(qiáng),直接影響真空滅弧室的性能,為保證滅弧室的可靠工作,我國部標(biāo)(JB)技術(shù)中規(guī)定其真空壓強(qiáng)的允許*大值為1.33×10-2pa國標(biāo)(GB)中為6.6×10-2pa
      詳情介紹:
      真空管測試儀生產(chǎn)
      一、序言:
      隨著我國配電系統(tǒng)“無油化”改造的順利實(shí)施,真空斷路的使用日趨普及。
      真空滅弧室作為真空斷路器的核心部件,真空壓強(qiáng),直接影響真空滅弧室的性能,為保證滅弧室的可靠工作,我國部標(biāo)(JB)技術(shù)中規(guī)定其真空壓強(qiáng)的允許*大值為1.33×10-2pa國標(biāo)(GB)中為6.6×10-2pa。盡管現(xiàn)代電真空技術(shù)已能保證它們有10年及至20年的真空壽命。但是由于我國目前的生產(chǎn)條件和工藝水平,沿不能完全保證生產(chǎn)的真空滅弧室不漏氣。同時我國現(xiàn)有真空滅弧室觸頭材料大多采用cucr,雖然cr的吸氣性強(qiáng),但當(dāng)采用傳統(tǒng)的粉末冶金法來制備cucr材料時,材料的含氣量還是比較高的。另外,由于制造時焊接工藝的質(zhì)量或運(yùn)輸過程中,受震動或安裝操作上的不當(dāng)?shù)仍颍斐陕獾目赡苄砸彩谴嬖诘摹R虼耍婵諟缁∈抑瞥沙鰪S以后,并不能永遠(yuǎn)維持真空的壓強(qiáng),而是有一定的真空壽命。隨著時間的增加,滅弧室的真空度將降低。經(jīng)過嚴(yán)格電真空工藝處理的真空滅弧室,影響真空度的主要因素為工作表面的放氣與吸氣過程。隨著工作時間的增長,滅弧室的微漏氣也會導(dǎo)致其真空度下降。使絕緣和開斷性能降低,發(fā)展到一定程度,真空斷路器將喪失其工作能力。滅弧室真空狀況直接影響電力系統(tǒng)運(yùn)行的**性。因此,對服役真空滅弧室真空度測定尤為重要。
      由本公司開發(fā)研制的ZKD-3型真空度測試儀是一套計算機(jī)實(shí)時數(shù)據(jù)采集處理系統(tǒng),它采用先進(jìn)的磁控放電技術(shù),并利用先進(jìn)的單片機(jī)技術(shù),配以專業(yè)設(shè)計的勵磁線圈,實(shí)現(xiàn)了現(xiàn)場不拆卸實(shí)時數(shù)據(jù)采集處理和微機(jī)同步監(jiān)視,測量精度高、數(shù)字化顯示、操作簡單、使用維護(hù)方便、檢測過程僅二十秒左右,為用戶掌握真空滅弧室真空狀態(tài),有計劃的更換滅弧室提供了可靠依據(jù)。對電網(wǎng)的**運(yùn)行提供了有力的保障。
      二、測試原理:
      將滅弧室的兩觸頭拉開一定的開距,施加脈沖高壓,將新型電磁線圈環(huán)繞于滅弧室外側(cè),向線圈通以大電流,從而在滅弧室內(nèi)產(chǎn)生與高壓同步的脈沖強(qiáng)磁場和強(qiáng)電場的作用下,滅弧室中的電子做螺旋運(yùn)動,并與殘余氣體分子發(fā)生碰撞電離,所產(chǎn)生的離子電流與殘余氣體密度即真空度近似成比例關(guān)系。對于不同的真空管型號(管型),由于其結(jié)構(gòu)不同,在同等觸頭開距、同等真空度、同等電場與磁場的條件下,離子電流間的對應(yīng)關(guān)系曲線。當(dāng)測知離子電流后,就可以通過查詢管型的離子電流一真空度曲線獲得該管型的真空度。這一過程由計算機(jī)自動完成。
      三、性能指標(biāo):
      1、適用范圍:各種型號、電壓等級及材料真空管
      2、開關(guān)天距:正常使用開距
      3、檢驗(yàn)范圍:100-10-6pa
      4、測量精度:優(yōu)于5%
      5、使用環(huán)境:-20℃-+40℃
      6、主機(jī)重量:7㎏
      7、外型尺寸:380×280×250(mm)
      四、技術(shù)參數(shù):
      1、供電電壓:AC220V±10% 50Hz±1
      2、脈沖高壓輸出:15KV
      3、磁場電壓輸出:1200V

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